●基本システム （◎印はオプション機能）
※1 高荷重オプション使用時： 10 N
| 外観 |  |
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| 名称 | Nano Indenter G200 | Nano Indenter G300 | ||
| 特長 | ISO 14577 Part 1,2,3 完全準拠 高い再現性と信頼性！ |
シリコンウェハを非破壊で測定 大型サンプルに対応！ |
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| サンプル面積 | 100×100 mm | 225×300 mm | ||
| 押し込みヘッド | 標準ヘッド | DCM-Ⅱヘッド | 標準ヘッド | DCM-Ⅱヘッド |
| 最大荷重 | 500 mN ※1 | 30 mN | 500 mN ※1 | 30 mN |
| 押し込み制御分解能 | 0.01 nm | 0.0002 nm | 0.01 nm | 0.0002 nm |
| 最大押し込み深さ | ＞ 500 µm | ＞ 70 µm | ＞ 500 µm | ＞ 70 µm |
| ISO 14577-1,2,3 準拠 | ◎ | ◎ | ||
| 連続剛性測定法 (CSM) | ◎ | ◎ | ||
| ラテラルフォース測定 (LFM) | ◎ | ◎ | ||
| Nano Vision | ◎ | ◎ | ||
| 高荷重オプション | ◎ | ◎ | ||
| リニアオプティカルエンコーダ | ◎ | ◎ | ||
| 真空チャック | ◎ | ◎ | ||
| 温度チャンバー | ◎ | ― | ||
| 加熱ステージ (350℃) | ◎ | ― | ||
| マイナスK防振台 | 標準装備 | 標準装備 | ||
| キャビネット | 標準装備 | 標準装備 | ||
| ソフトウェア | NanoSuite | NanoSuite | ||